Държавно подкрепян производител в Шанхай е започнал масово производство на машини за дълбока ултравиолетова литография (DUV) - ключова технология за производство на чипове, в която доминира ASML, съобщи The Information, като цитира свои източници.
Новината срина акциите на нидерландската компания с над 7% - най-лошия ѝ ден от 8 юни насам. Реакцията на пазарите не подмина и други доставчици в сектора. BE Semiconductor Industries поевтиня с около 8,5%, Soitec - с 5%, а Infineon Technologies - с почти 3%.
Първите машини трябва още тази година да стигнат до водещи китайски производители на чипове - SMIC, Hua Hong Semiconductor и производителя на памет ChangXin Memory Technologies (CXMT).
Името на производителя на този етап не се разкрива, но се смята, че по проекта са работили няколко китайски фирми, сред които стартъпът Shanghai Yuliangsheng Technology, свързан и с Huawei. SMIC тества оборудване на Yuliangsheng от септември 2025 г.
Предизвикателства не липсват
Производството засега е ограничено - около пет машини през 2026 г. и около 20 през 2027 г., при положение че ASML планира да достави около 130 такива системи тази година, колкото и през 2025 г. Повечето компоненти на новите системи са произведени в Китай, но някои критични части все още се внасят от Япония, а забавяния при местните доставчици ограничават темпото.
Новите китайски DUV машини работят базово на 28 нанометра - не достигат нивото на флагмански смартфони или AI сървъри, но захранват голяма част от световната индустрия: електромобили, промишлена автоматика, битова електроника и военна техника. Затова домашното производство на машини за чипове има значение дори без пробив във високия клас - то осигурява работата на заводите при пълна западна изолация.
А такава се очертава - САЩ притискат ASML да спре даже да обслужва оборудването, доставено в Китай преди налагането на санкциите.
Имерсионната DUV технология позволява освен това чрез многократно наслагване на маски да се постигне много по-висока прецизност. По този начин, но със стари машини на ASML, китайската SMIC успя да произведе 7-нанометров чип още през 2022 г.
Проблемът е, че този подход увеличава риска от дефекти, както и фактическата сложност на полупроводниковите елементи. Иначе казано, от един момент нататък става твърде скъпо. Тъй като говорим за Китай, за особено критичните приложения вероятно цената няма да е фактор.
Обаче при 3 нанометра и надолу - колкото са нужни за топ AI чиповете и логическите компоненти на HBM паметите за тях, екстремната ултравиолетова литография (EUV) е практически задължителна. Там ASML е лидер, а Китай поне според западни оценки все още е на ниво прототип - и то такъв, в който са вложени и части от машини на нидерландския производител.
Ясно е обаче, че в Пекин не жалят сили и средства, за да догонят Запада и в този аспект от чип индустрията. Не е случайно и че според различни информации страната използва експертизата (т.е. вербува) и бивши служители на ASML.
USD
CHF
GBP